Mikrosystemtechnik I

Voraussetzungen

  • Grundkenntnisse in Werkstoffe und Technologien der Elektrotechnik, Physik

Inhalt

  • phys.-chem. Grundlagen der Mikrotechnik: strukturelle und physikalisch-chemische Kristallographie, Festkörperphysik, elektrische und optische Festkörpereigenschaften
  • Materialien für die Opto- und Mikroelektronik sowie für die Mikrotechnik,
  • Basistechnologien der Mikroelektronik: Reinraumtechnik, Vakuumtechnik, Schichtabscheidung, Lithographie, Aufbau und Verbindungstechnik
  • Oberflächenmodifikation durch Elektronen-, Photonen- und Ionenstrahlen, Ätzen,
  • Festkörperanalytik: Elektronenmikroskopie, Röntgen- und Elektronenbeugung,
  • Oberflächenanalytik: EDX, AES, XPS, SIMS, RBS, Raster-Tunnelmikroskopie
  • Siliziumtechnologie
  • LIGA: Masken, Röntgenlithographie, galvanische Schichtabscheidung, Mikroverfahren der Polymertechnologie, rapid prototyping und rapid tooling.
  • andere Techniken der mechanische Mikrofertigung: EDM, Laser-Mikrotechnik
  • Ausblick Systemtechnologie: Sensor-Aktuator-Systeme, Signalverarbeitung

Literatur

  • W. Menz, J. Mohr, O. Paul: Microsystem Technology, Wiley-VCH, Weinheim, NY, 2001
  • J. Frühauf: Werkstoffe der Mikrotechnik, Fachbuchverlag Leipzig, 2005

DozentIn

1 SWS Vorlesung
1 SWS Seminaristische Übung
1 SWS Übung
1 SWS Praktikum

Prüfung
120 min. schriftlich 
oder 20 min. mündlich

Wert
5 Credits